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半导体超纯水装备—EDI超纯水处置体系

半导体超纯水装备—EDI超纯水处置体系

    我国电子财产电子级水质手艺规范(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)

  半导体超纯水装备用处

  半导体、集成电路芯片及封装、液晶显现、高精度线路板、光电器件、各类电子器件、微电子财产、大范围、超大范围集成电路需用大批的高纯水、超纯水洗濯半制品、制品。集成电路的集成度越高,对水质的请求也越高。今朝我国电子财产部把电子级水质手艺分为五个行业规范,别离为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以辨别差别水质。

  半导体(semiconductor),指常温下导电机能介于导体与绝缘体之间的资料。半导体资料良多,按化学成份可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是经常使用的元素半导体;化合物半导体包含Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化镉、硫化锌等;氧化物:锰、铬、铁、铜的氧化物,和由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物构成的固溶体:镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外,另有非晶态的玻璃半导体、无机半导体等。

  半导体超纯水装备制备工艺

  1、预处置体系→反渗入体系→中间水箱→粗夹杂床→精夹杂床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→紧密过滤器→用水滴(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处置→反渗入→中间水箱→水泵→EDI装配→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm紧密过滤器→用水滴(≥18MΩ.CM)(新工艺)

  3、预处置→一级反渗入→加药机(PH调理)→中间水箱→第二级反渗入(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装配→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm紧密过滤器→用水滴(≥17MΩ.CM)(新工艺)

  4、预处置→反渗入→中间水箱→水泵→EDI装配→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm紧密过滤器→用水滴(≥15MΩ.CM)(新工艺)

  5、预处置体系→反渗入体系→中间水箱→纯水泵→粗夹杂床→精夹杂床→紫外线杀菌器→紧密过滤器→用水滴 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

  水质规范

  半导体超纯水装备,超纯水装备,超纯水处置装备出水水质合适美国ASTM纯水水质规范、我国电子财产电子级水质手艺规范(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子财产超纯水水质试行规范、半导体财产用纯水目标、集成电路水质规范。

  半导体超纯水装备的利用范畴

  电解电容器出产铝箔及任务件的洗濯;

  电子管出产、显像管和阴极射线管出产配料用纯水;

  口角显像管荧光屏出产、玻壳洗濯、积淀、潮湿、洗膜、管颈洗濯用纯水;

  出产液晶显现器的屏面需用纯水洗濯和用纯水配液;

  晶体管出产中纯水首要用于洗濯硅片;

  集成电路出产中高纯水洗濯硅片;

  半导体资料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;

  半导体资料、晶元资料出产、加工、洗濯;

  高品德显像管、萤光粉出产;

  汽车、家电外表抛光处置。

  莱特莱德的光电资料出产、加工、洗濯;液晶显现屏、离子显现屏、高品德灯管显像管、微电子财产、FPC/PCB线路板、电路板、大范围、超大范围集成电路需用大批的高纯水、超纯水洗濯半制品、制品。集成电路的集成度越高,对水质的请求也越高,这也对超纯水处置工艺及产物的简略单纯性、主动化水平、出产的延续性、可延续性等提出了加倍严酷的请求。